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PHI Qunatera SXM / PHI 5000 Versaprobe アプリケーション
PHI Qunatera SXM / PHI 5000 Versaprobe の機能や応用例などのご紹介です。
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PHI Quantera SXM： ブルーレイディスクのXPSサーベイデプスプロファイリング |
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| PHI Quantera SXM 走査型X線光電子分光分析装置 | |
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| PHI 5000 Versaprobe 走査型Ｘ線光電子分光分析装置 | |
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| PHI Quantera SXM： ゲート絶縁膜のXPSによる評価 | |
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| PHI 06-C60 C60スパッタイオン銃パッケージ | |
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| C60スパッタイオンガンを用いたポリマー表面上の添加剤層の薄膜解析 | |
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| C60イオンスパッタリングを用いた異種ポリマー界面のXPS深さ方向分析 | |
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| C60イオン銃による毛髪のＸＰＳ深さ方向分析 | |
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| トランスファーベッセルを用いた電池材料の評価 | |
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| PHI Quantera SXM： 極薄膜のXPSスパッタデプスプロファイリング | |
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| PHI Quantera SXM： 試料冷却オプション | |
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| 多目的試料前処理チャンパーの製作例 | |
C60 ユーザー論文リスト
本リストは、ネット検索結果から作成したC60ユーザーの論文リストです。
リストに掲載されていない論文がございましたら、アルバック・ファイ マーケティング室までご一報下さい。
1. Migration of small molecules during the degradation of organic light-emitting diodes, Organic Electronics, 10, [4], 581-586 (2009),Wei-Chun Lin, Wei-Ben Wang, Yu-Chin Lin, Bang-Ying Yu, Ying-Yu Chen, Mao-Feng Hsu, Jwo-Huei Jou and Jing-Jong Shyue, Academia Sinica, National Tsing Hua University. |
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2. Effects of nanomorphological changes on the performance of solar cells with blends of poly[9,9'-dioctyl-fluorene-co-bithiophene] and a soluble fullerene, Nanotechnology 20, 025202 (2009),Jen-Hsien Huang, Zhong-Yo Ho, Dhananjay Kekuda, Yung Chang, Chih-Wei Chu and Kuo-Chuan Ho, National Taiwan University , Academia Sinica, et al., | |
3. Extremely low sputtering degradation of polytetrafluoroethylene by C60 ion beam applied in XPS analysis, Surface and Interface Analysis, 36 (2004) 280?282,N. Sanada, A. Yamamoto, R. Oiwa, and Y. Ohashi, ULVAC-PHI, Inc. |
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4. The Development of a range of C60 ion beam systems, Applied Surface Science 252, [19] 7304-7307 (2007),R. Hill, P. Blenkinsopp, A. Barber, and C. Everest, Ionoptika Ltd. |
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5. The effect of angle of incidence to low damage sputtering of organic polymers using a C60 ion beam, Applied Surface Science 255, [4] 951-953 (2008),Takuya Miyayama, Noriaki Sanada, Shin-ichi Iida, John S. Hammond, and Mineharu Suzuki, ULVAC-PHI, Inc, Physical Electronics. |
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6. Surface depth analysis for fluorinated block copolymer films by X-ray photoelectron spectroscopy using C60 cluster ion beam, Applied Surface Science 254 [17] 5435-5438 (2008),Keiji Tanaka, Noriaki Sanada, Masaya Hikita, Tetsuya Nakamura, Tisato Kajiyama and Atsushi Takahara, Kyushu Univ., ULVAC-PHI, Chemical Innovation Institute, NOF Corp. |
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7. Recent Developments and Applications in AES and XPS , Journal of Surface Analysis, 12, [2] 97-100, (2005),D. Sakai, N. Sanada, J.S. Hammond, and H. Iwai, ULVAC-PHI. |
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8. Sputter damage in Si (0 0 1) surface by combination of C60+ and Ar+ ion beams, Applied Surface Science 255 [5] 2490-2493 (2008),Bang-Ying Yu, Wei-Chun Lin, Ying-Yu Chen, Yu-Chin Lin, Ken-Tsung Wong and Jing-Jong Shyue, Academia Sinica, National Tsuing Hua University. |
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9. Depth Profiling of Organic Films with X-ray Photoelectron Spectroscopy Using C60+ and Ar+ Co-Sputtering, Anal. Chem., 80 [9] 3412-3415 (2008),Bang-Ying Yu, Ying-Yu Chen, Wei-Ben Wang, Mao-Feng Hsu, Shu-Ping Tsai, Wei-Chun Lin, Yu-Chin Lin, Jwo-Huei Jou, Chih-Wei Chu, and Jing-Jong Shyue, Academia Sinica, National Tsuing Hua University. |
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10. X-ray Photoelectron Spectrometry Depth Profiling of Organic Thin Films Using C60 Sputtering, Anal. Chem., 80 [2] 501-505 (2008),Ying-Yu Chen, Bang-Ying Yu, Wei-Ben Wang, Mao-Feng Hsu, Wei-Chun Lin, Yu-Chin Lin, Jwo-Huei Jou, and Jing-Jong Shyue, Academia Sinica, National Tsuing Hua University. |
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11. ArF液浸用レジストのC60イオンビームを用いたXPS深さ方向状態解析, 表面科学 28[7] 348-353,山本 雄一, 代田 直子, 山本 清, AGC旭硝子. |
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走査型X線光電子分光分析装置 (ESCA/XPS) Quantera SXM ™ 製品ページへ
走査型X線光電子分光分析装置 (ESCA/XPS) PHI 5000 VersaProbe ™ 製品ページへ
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