イベント

image：イベント

分析展2010・科学機器展2010

"最新の分析機器、科学機器が集結する"アジア最大の分析総合イベント【分析展2010・科学機器展2010】が
本年も充実した内容で開催されます。

当社も "ブース出展" および "新技術説明会" に参加いたします。

「表面分析」への期待がますます高まる中、新エネルギー開発などの社会的に重要なテーマや
最先端の研究分野、複雑化が進む機能材料分析のニーズに応えるべく、
盛り沢山の内容で皆様のご来場をお待ちしております。

走査型オージェ電子分光分析装置
「PHI 4700 Thin Film Analyzer」

走査型Ｘ線光電子分光分析装置
「PHI QuanteraⅡ」

ガスクラスターイオン銃搭載
走査型Ｘ線光電子分光分析装置「PHI 5000 VersaProbe」

実演スケジュール２０分程度を予定しております。

走査型オージェ電子分光分析装置「PHI 4700 Thin Film Analyzer」

９月２日（木）①１４：００～②１６：００～

走査型Ｘ線光電子分光分析装置「PHI QuanteraⅡ」

９月１日（水）①１４：００～②１６：００～

９月３日（金）①１１：００～②１４：００～③１６：００～　ビデオでのご説明

「ガスクラスターイオンが拓く表面分析(TOF-SIMS、XPS)のフロンティア」
９月１日（水）12:40～13:30　アパホテル＆リゾート A-4

ガスクラスターイオンの利用がTOF-SIMS、XPS（ESCA）等の表面分析に大きな革新を起こしています。
最新のクラスターイオン技術と各種材料への分析事例をもとに、今まさに見えてきた表面分析のフロンティアを紹介します。

「アルバック・ファイ社のXPS(ESCA)、オージェ最新表面分析装置と分析技術」
９月３日（金）12:40～13:30　アパホテル＆リゾート A-4

アルバック・ファイ社のXPS（ESCA）・オージェ最新表面分析装置を紹介します。
当社独自の走査型XPSの最新情報、オージェによる深さ方向分析の新展開と、それらの機能を発揮した典型分析例も報告します。

今後も詳細が決定次第、情報を掲載いたします。

＜分析展2010・科学機器展2010概要＞

会　期：　２０１０年９月１日（水）～３日（金） 10:00～17：00 入場無料/事前登録が必要です
　　　　　　→登録先ＵＲＬ：http://www.jaimasis.jp/2010/access/index.html/

会　場：　幕張メッセ国際会議場　（千葉県幕張市）
主　催：　（社）日本分析機器工業会、日本科学機器団体連合会