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今回開発した PHI 5000 VersaProbe™ は、走査型マイクロフォーカスⅩ線源（当社特許）を用いて最小10μmという微小領域での高感度分析を実現するとともに、多様な材料の開発に要求される様々な分析機能をオプションとして装備できる特長を持っています。
オプション群を以下に示します。
(1) 有機物の低損傷深さ方向分析を可能にするC60イオン銃（当社特許）
(2) 仕事関数測定を可能にする紫外光電子分光（UPS）
(3) 表面での反応を測定するための反応室など試料処理室
(4) オージェ電子分光を可能にする走査型電子銃
(5) 異なった波長のⅩ線源の利用を可能にするデュアルアノード高輝度Ⅹ線源 これらオプションの他に、絶縁物を容易に測定できるデュアルビーム帯電中和（当社特許）、非破壊で薄膜の深さ方向分析ができる角度依存測定、低速から高速までのスパッタ深さ方向分析を可能にするスパッタイオン銃、スパッタ時の表面荒れを防止する試料回転機構、5軸自動ステージを標準で装備しています。
PHI 5000 VersaProbe™ はこれまでに当社が培った世界トップのⅩ線光電子分光装置技術を集積し、さらに広範な開発ニーズに対応できる豊富なオプション群の搭載を可能にした装置です。
本件に関する問合せ先：国内・海外営業部 0467-85-4220（直通）
新走査型X線光電子分光分析装置を発表 【2006.8】
新しい走査型Ⅹ線光電子分光分析装置PHI 5000 VersaProbe™ 開発し、デモ分析および受注を開始しました。今回開発した PHI 5000 VersaProbe™ は、走査型マイクロフォーカスⅩ線源（当社特許）を用いて最小10μmという微小領域での高感度分析を実現するとともに、多様な材料の開発に要求される様々な分析機能をオプションとして装備できる特長を持っています。
オプション群を以下に示します。
(1) 有機物の低損傷深さ方向分析を可能にするC60イオン銃（当社特許）
(2) 仕事関数測定を可能にする紫外光電子分光（UPS）
(3) 表面での反応を測定するための反応室など試料処理室
(4) オージェ電子分光を可能にする走査型電子銃
(5) 異なった波長のⅩ線源の利用を可能にするデュアルアノード高輝度Ⅹ線源 これらオプションの他に、絶縁物を容易に測定できるデュアルビーム帯電中和（当社特許）、非破壊で薄膜の深さ方向分析ができる角度依存測定、低速から高速までのスパッタ深さ方向分析を可能にするスパッタイオン銃、スパッタ時の表面荒れを防止する試料回転機構、5軸自動ステージを標準で装備しています。
PHI 5000 VersaProbe™ はこれまでに当社が培った世界トップのⅩ線光電子分光装置技術を集積し、さらに広範な開発ニーズに対応できる豊富なオプション群の搭載を可能にした装置です。
本件に関する問合せ先：国内・海外営業部 0467-85-4220（直通）
新飛行時間型二次イオン質量分析装置を発表 【2006.8】
新走査型X線光電子分光分析装置を発表 【2006.8】
C60イオン銃 販売開始 【2004.11】
