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PHI 5000 VersaProbe ™　走査型X線光電子分光分析装置

Ｘ線光電子分光法 (XPS: X-Ray Photoelectron Spectroscopy, ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis )は、試料にＸ線を照射し、試料表面から放出される光電子のエネルギーを測定することにより表面の組成並びに化学結合状態に関する情報を得る手法です。
PHI 5000 VersaProbe ^TM は、Quantera SXM ^TMで培った走査型マイクロフォーカスX線源を多面的な分析が要求される研究・開発分野に活用するために開発されたマルチテクニックESCA装置です。UPS、AES、C₆₀イオン銃、デュアルアノードX線源などの多様なオプションを目的に応じて搭載できます。

特長

走査型マイクロフォーカスＸ線源による微小領域分析（最小分析領域10μm）
豊富なオプションを搭載可能（ UPS、オージェ電子分光分析器、C₆₀イオン銃、試料処理室、
デュアルアノードX線源など）
ＳＸＩ ( Scanning X-ray Image ) により、正確・迅速に微小な分析位置を特定
低エネルギー電子とイオンの同時照射により、絶縁物試料を容易に帯電中和
5軸（ X、Y、Z、Tilt、Rotation ）モータ駆動による多点分析
Windows®XP対応オペレーションソフトウェア（ PHI-SUMMITT ）による容易な操作性
データ解析ソフトウェア（MultiPak™）による容易且つ高度なデータ解析機能

主な仕様

最小ビーム径	10μm以下
最高エネルギー分解能	0.5eV以下（Ag3d 5/2）
最大感度	1,000,000cps （Ag3d 5/2の半値幅1.0eVのとき）
到達圧力	6.7×10^-8Pa以下
オプション	UV光源（UPS）、走査型電子銃（オージェ）、C₆₀イオン銃、デュアルアノードX線源、加熱冷却ステージ、トランスファーベッセル他

PHI 5000 VersaProbe ™ 走査型X線光電子分光分析装置

特長

主な仕様

PHI 5000 VersaProbe ™　走査型X線光電子分光分析装置