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FIG-5 スパッタイオン銃

本イオン銃は、ICF70取付のコンパクトなイオン銃でありながら、最大10 μAのビーム電流、150 μm以下のビーム径、2 mA/cm2以上の最大電流密度を実現した画期的なイオン銃です。
さらにフローティング機構を搭載しているため低速イオンビームを高輝度で得られるようになりました。

特長

フルベーカブルな構造により超高真空に対応します。
高イオン電流密度（>2 mA/cáu @ 5 kV)により高速スパッタエッチングが可能です。
イオンビーム径を150 μm以下( 5 kV)まで絞ることが可能です。
フローティングレンズ搭載により、超低エネルギー(10eV)から5keVまでのイオンビームの利用が可能になりました。
差動排気を行った場合､イオン照射中でも装置内の圧力を超高真空に保つことが可能です。
フィラメントのアセンブリ化により、フィラメント交換が容易になりました。
外部制御により、加速電圧のON/OFFおよびラスター制御(X/Y独立 0-10 V)が可能です。

主な仕様

諸元　　　　　型式	イオン銃
加速電圧　kV	0〜5
最大ビーム電流　μ	10以上（＠5kV）
低速ビーム電流　nA	12（@10eV）
最大ビーム電流密度　mA／cm²	2以上^※1
最小ビーム径　μm	200以下^※1
ビーム偏向　mm	機械的：± 5　　静電的：± 3
ラスター範囲　mm	最大10×10
ソースタイプ	電子衝撃式
フィラメント交換	450時間使用毎
差動圧	10000：1^※1
動作距離　mm	30〜70^※3

諸元　　　　　型式	コントロール
加速電圧　kV	0〜5
フロート電圧　 V	0〜500
外部制御	加速電圧ON/OFF　ラスタ制御^※4
寸法W×H×D^※5㎜	482×176×375
電力	AC100/115V 1.5A
質量　kg	18.2

※1：加速電圧を5kV、動作距離を30mmとし、ガス種にArを使用した場合
※2：差動排気口に50L/s以上のポンプを取り付けた場合
※3：イオン銃先端から試料までの距離
※4：X/Y独立0-10V電圧制御
※5 W=Width, H=Height, D=Depth