JASIS関西 2025

JASIS関西 2025

会期:2025年1月29日(水)~31日(金)
会場:グランキューブ大阪(大阪府立国際会議場)
主催者WEBサイト:https://www.kansai-jasis.jp/

・ご来場前に来場者事前入場登録を!
*『入場証』は、ご自身で A4サイズ・100%・カラー印刷し、ご持参ください。

展示ブース

G-07

展示ブースでは、非破壊で深さ方向分析が可能なHAXPES、イオン化ポテンシャルや電子親和力の情報が得られるUPS/LEIPS、有機材料の深さ方向分析には欠かせないガスクラスターイオンビーム(Ar-GCIB)、TOF-SIMSにおける分子構造解析に不可欠なMS/MS、他、AESやダイナミックSIMSなど、最新の表面分析技術についてご紹介いたします。

アルバック・ファイ×堀場.jpg
スペシャルコラボレーションとして、アルバック・ファイの最先端の表面分析装置と、株式会社堀場製作所のAFM-Raman分光装置を用いた同一箇所での詳細な分析を目指した取り組みと、その分析事例をご紹介いたします。


新技術説明会

日時 テーマ(内容) 会場
1月29日(水)
15:30~16:00
フルオート多機能走査型XPS装置 PHI GENESISを用いた半導体材料の分析事例 会議室1004
1月30日(木)
13:00~13:30
アルバック・ファイのTOF-SIMS分析装置を用いた最新応用事例 会議室1007