2月10日（金）三田NNホール

ユーザーズミーティング（東京）では、当社からの発表・お知らせや自由討論のほか、３名のユーザー様よりご発表をいただきました。

発表をご快諾いただきました、京都大学 Heidy Visbal 様、
日鉄住金テクノロジー株式会社　安達 丈晴 様、日本特殊陶業株式会社　菱田 智子 様に、厚く御礼申し上げます。

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「TOF-SIMSによる活物質/硫化物固体電解質界面の構造解析」

京都大学大学院 工学研究科　Heidy Visbal 様

京都大学 平尾研究室にて、次世代リチウムイオン電池の研究開発に携わっていらっしゃる Heidy Visbal様からは、現在開発が進んでいる全固体電池への取り組みについてご発表いただきました。

リチウムイオン電池の活用範囲は、パソコンや携帯電話のみならず自動車分野への需要も増大しています。Heidy様のグループでは、固体電解質に硫化物の Li₂S-P₂S₅ を用いて活物質の界面をDLCコーティングすることで、界面の反応を抑えることができると考え、様々な検証を重ねていらっしゃいます。今回の発表では、活物質の界面の状態をTOF-SIMSで分析した結果、DLCコーティングにより酸化変質生成物（PO₃,SO₃）が抑えられていることが報告されました。

発表の中で、TOF-SIMSは全固体電池における活物質/電解質界面の構造解析に新たな洞察を与えるとの力強いお言葉を頂戴しました。リチウムイオン電池開発の最先端の研究成果ということもあり、質疑も活発に交わされるなど、参加者の皆様においても、関心の高さが伺えるご発表であったと感じました。

今回、東京・京都の２会場でご発表くださいました Heidy様に改めて感謝申し上げます。
（注：レポートは、東京・京都分で共通とさせていただきます）

「高温・高圧水下における腐食生成物のその場分析および Cr添加の影響調査」

日鉄住金テクノロジー株式会社　安達 丈晴 様

鉄鋼材料を中心に様々な技術課題に対する問題解決や最先端の研究開発の支援を行っている日鉄住金テクノロジー株式会社の安達様からは、油井管環境などに代表される高温・高圧の過酷な環境に使用される鉄鋼材を対象に炭酸ガス腐食環境で生じる腐食生成物と耐食性への影響をお話しいただきました。

4種類の Cr量および添加元素を変化させた鉄鋼材の CO₂腐食について、ラマン分光（In-Situ）と AES, XPS（Ex-Situ）を用いてそれぞれの利点を活かした実験結果をご発表いただきました。上記の環境下での炭酸鉄生成に伴う腐食に対し、Cr添加における炭酸鉄生成の抑制を分かりやすくご説明いただきました。

また、ご講演内での当社装置への愛着を感じるお話や、２名のエンジニアとの印象深いエピソードなど、スタッフ一同大変嬉しく思いながら拝聴いたしました。

「真空破断によるX線光電子分光におけるバルク敏感性の改善」

日本特殊陶業株式会社　菱田　智子 様

日本特殊陶業株式会社の菱田様からは、実験室の光電子分光分析装置（Lab-XPS）を使って、ペロブスカイト Mn 酸化物 "La_1-xSr_xMnO₃ (LSMO)" の電子状態解析を行った例をお話しいただきました。

”LSMO”のバルク敏感な電子状態解析は、従来放射光施設での硬X線光電子分光（HAXPES）が一般的で、”LSMO"の導電性と Mn 2pのピーク形状に関係性が見出されていたそうですが、菱田様は、軟X線を有するLab-XPSに真空破断機構を増設することで、これまで不可能とされていたLab-XPSで解析を行い、HAXPESと同等の結果が得られることを明らかにされました。

ご本人の研究成果もさることながら、特注の真空破断機構への質問もあり、会場の皆様の関心の高さが伺える発表でした。

「TOF-SIMSによる活物質/硫化物固体電解質界面の構造解析」

京都大学大学院 工学研究科　Heidy Visbal 様

京都大学 平尾研究室にて、次世代リチウムイオン電池の研究開発に携わっていらっしゃる Heidy Visbal様からは、現在開発が進んでいる全固体電池への取り組みについてご発表いただきました。

リチウムイオン電池の活用範囲は、パソコンや携帯電話のみならず自動車分野への需要も増大しています。Heidy様のグループでは、固体電解質に硫化物の Li₂S-P₂S₅ を用いて活物質の界面をDLCコーティングすることで、界面の反応を抑えることができると考え、様々な検証を重ねていらっしゃいます。今回の発表では、活物質の界面の状態をTOF-SIMSで分析した結果、DLCコーティングにより酸化変質生成物（PO₃,SO₃）が抑えられていることが報告されました。

発表の中で、TOF-SIMSは全固体電池における活物質/電解質界面の構造解析に新たな洞察を与えるとの力強いお言葉を頂戴しました。リチウムイオン電池開発の最先端の研究成果ということもあり、質疑も活発に交わされるなど、参加者の皆様においても、関心の高さが伺えるご発表であったと感じました。

今回、東京・京都の２会場でご発表くださいました Heidy様に改めて感謝申し上げます。
（注：レポートは、東京・京都分で共通とさせていただきます）

「グラフェン導電層を用いた絶縁物のオージェ電子分光分析」

京都府中小企業技術センター　鴨井 督 様

公設の試験研究機関に従事され、依頼試験・機器貸付をはじめとした技術支援や企業に役立つ技術情報の発信をメインにご担当されている鴨井様からは、当社AES装置 PHI 700 を用いた絶縁物材料上へのグラフェン転写による帯電補正法というユニークな提案と分析結果のご報告をいただきました。

AESの絶縁物分析は、兼ねてから多くのユーザー様がご苦労されている分析の一つです。この課題に向けた新たな提案は大変参考になりました。

また、今後の課題として話題に上がったグラフェンのドライ転写や、凹みのあるサンプルへのグラフェン転写法についても、引き続きの検証や結果に対する期待が高まるご発表でした。

「化学修飾/ESCA, TOF-SIMSによる表面解析」

花王株式会社　岡本 昌幸 様

花王株式会社の岡本様からは、選択的な官能基の修飾反応を用いたESCA(XPS),TOF-SIMS解析例をご発表いただきました。

化学修飾/ESCA(XPS)の例としては、水酸基とアミノ基両方を持つ化合物に対し、アミノ基だけを選択的に修飾させる方法についてご紹介いただきました。また、化学修飾/TOF-SIMSの例として、イオン化され難く昇華性のある高級アルコールに対してイオン化し良い基剤で修飾することで測定を容易にする方法をお話いただき、ESCA(XPS),TOF-SIMS両手法における大変貴重な分析のノウハウをご教示くださいました。

それぞれの手法で実際の試料の分析例を紹介いただいたのですが、花王様らしい私たちに身近なものを使った内容で、とても興味深く拝聴しました。