アルバック・ファイ株式会社 （代表取締役社長 山本 公） は、公益社団法人 表面科学会より、「表面分析用ガスクラスタースパッタリング銃の開発および商品化」の業績に対して 産業賞 を受賞しました。

表面科学会の産業賞は、表面科学関連産業の進歩発展に大きく貢献したと認められる製品、技術ノウハウまたはそれに類する成果に対して与えられる賞です。
アルバック・ファイ社の本開発及び商品化により、Ｘ線光電子分光法（XPS）、飛行時間型二次イオン質量分析法（TOF-SIMS）を用いた有機系材料の分析が大きな発展を遂げました。

本装置を搭載した表面分析装置において、アルゴンクラスターによる極低損傷スパッタリングが実証されたと共に、有機物の極低損傷深さ方向状態分析、表面汚染の除去が実現しました。

贈呈式は2011年12月15日、タワーホール船堀にて行われた、第31回 表面科学学術講演会内で開催されました。（平成２３年度　産業賞受賞社決定のお知らせ）

｢アルゴンガスクラスターイオン銃｣