イベントレポート：JASIS 2014
2014.11.04 Update
2014年9月3日から5日まで幕張メッセにて開催！
イベントレポート：JASIS 2014
企業出展及び新技術説明会に参加いたしました。
今年もたくさんの皆様にご来場いただき、誠にありがとうございました。
当社ブースでは、今までに製造・販売してきた表面分析の装置/技術の歴史が一目でわかるデザインを壁面に配置し、表面分析装置の紹介をはじめとする各種パネルを展示いたしました。
特に、新製品の「PHI nanoTOF II」と「PHI 4800」については、それぞれのパネルの前で詳しく説明する機会が多く、改めて当社新製品や新技術に対するお客様の期待を実感いたしました。
また、別会場で行われた新技術説明会では、当社から2件の発表を行いました。
『アルバック・ファイにおけるTOF-SIMS装置の新技術』
現在様々な分野で注目されつつあるTOF-SIMS。
その原理や当社での開発の歴史にも触れながら、新しいTOF-SIMS装置（PHI nanoTOF II™）について、実際のデータや測定例などを示しながら分りやすく紹介しました。
（発表者：分析室 飯田真一）
『電子分光装置における新技術紹介とその新たな応用事例』
日々変化し続ける多様なニーズに応えるべく、当社では様々な取り組みを行っています。その中で、XPS測定において画期的な効果が期待される新技術（HXPS/硬X線光電子分光分析装置）や、新型FE銃を搭載した新しい走査型オージェ電子分光分析装置（PHI 4800)の開発動向について、最新のデータを盛り込みながら説明しました。（発表者：技術部 渡邉勝己）
なお、今年は11月に JASIS 2014 関西 新技術説明会が初めて開催され、当社も参加いたします。
関西地区の方や幕張にお越しいただけなかった方は、ぜひこの機会にご来場ください。