開場・受付開始

-開会挨拶-

アルバック・ファイ株式会社　分析室　井上りさよ
「ラボ型 硬X線光電子分光分析装置の開発紹介 -最新の基礎的なデータを中心に-」

Physical Electronics USA, Inc.　Scott Bryan
「New Capabilities Under Development for the PHI nanoTOF II」

- 昼食 -

大日本印刷株式会社　研究開発センター
藤村 秀夫　様
「企業における研究開発と分析との関わりあい」

株式会社巴川製紙所　巴川分析センター
小渕 秀澄　様
「製品異物への分析アプローチ」

- 休憩 -

韓国標準科学研究院（KRISS, Division of Industrial Metrology)
Kyung Joong Kim　様
「Practical Applications of XPS for Industrial Metrology」

国立研究開発法人物質・材料研究機構　極限計測ユニット表面化学分析グループ
吉川 英樹　様
「硬X線光電子分光の実用と展望」

-閉会挨拶-
～講演会終了後に懇親会を予定しております。ぜひご参加ください。～