PHI QuickSE シリーズ
最速0.02秒 超高速膜厚測定！
PHI QuickSE シリーズ
試料に光を照射し、反射した光の偏光状態の変化から、薄膜の膜厚や光学定数を解析する手法（エリプソメトリー）を用いた測定器です。
PHI QuickSEシリーズは、独自の測定方式により、高速測定とコンパクト化を実現。ユニークなポータブルタイプや自動ステージタイプなど、用途に応じた幅広いラインアップを用意しています。
特長
- 独特なスナップショット方式による最速20 msの高速測定
- 軽量・コンパクトで、定期メンテ不要、かつ、低ランニングコスト
- 誰でも使える抜群の操作性
用途・分野
- 透明または半透明膜
- 半導体、太陽電池、ポリマー、ディスプレイ、ストレージ、光学薄膜など
製品ラインアップ
軽量・コンパクトなポータブルタイプ
PHI QuickSE-Portable
持ち運び可能で大型サンプルにも対応
小さなサンプルは、付属の固定ステージ上で測定します。
大きなサンプルの場合は、本体をステージから取り外し、サンプル上に直接本体をのせて測定を行います。
専用のキャリーケース（オプション）に収納すれば、安心して持ち運びいただけます。
Φ 150 mm対応の手動ステージタイプ
PHI QuickSE-150
マッピング測定が可能な自動ステージタイプ
PHI QuickSE-150A/200A/300A
高速ステージマッピングによるウェハの膜厚評価
測定座標の入力は、R-θ モード、または、X-Y モードで簡単に指定できます。
PHI QuickSEの測定例
再現性評価の測定例
下図は、標準試料（SiO2/Si）の測定例です。
高速測定下においても、高い正確度、精度、繰り返し再現性を示しています。
有機膜の測定例
下図は、2種類の有機薄膜を触針式段差計と分光エリプソメーターで測定した結果です。
測定結果から膜厚については触針段差計の結果と高い相関性が確認できます。
また、分光エリプソメーターを用いることにより、有機薄膜の屈折率も膜厚と同時に求めることが可能です。
酸化ハフニウム (HfO2) 極薄膜の測定例
PHI QuickSEで測定した ウェハー中心付近のHfO2 膜厚（5.85 nm, 2.46 nm）は、TEM（透過型電子顕微鏡）での測定値（6.0 nm, 2.5 nm）とほぼ一致し、PHI QuickSE の測定信頼性が確認できました。
また、非破壊測定 及び 高速測定 のメリットを利用し、ウェハ全体での膜厚分布も簡単かつ迅速に測定することができます。
