本年も当社ブースにたくさんのお客様がお立ち寄りくださいました。

本年度の柱となる最新情報は、この度リリースした "新製品" と、当社が独自に開発した "新技術" で、それぞれの実測データや応用例を用いて特長や機能をまとめたパネルを配置しました。

ブース内では、パネルや動画などを使い、お客様に興味を持っていただいた内容に対して説明を行いました。

新製品

• PHI 5000 VersaProbe III（X線光電子分光分析装置・XPS）
  「販売実績No,1　VersaProbeシリーズの最新モデル」

• PHI 4800（オージェ電子分光分析装置・AES）
  「最高感度の次世代オージェ」

新技術

• 走査型デュアルモノクロX線源 搭載　硬X線光電子分光分析装置（PHI Quantes)
  「AlKαとCrKαの２線源を有し、同一点で異なる深さ情報の分析を可能にしたラボ型HAXPES」

• PHI nanoTOF II 用 MS/MSオプション（パラレルイメージングMS/MS）
  「同一分析領域のMS¹とMS²（スペクトルとイメージ）の同時取得を実現。これまで難解とされてきたTOF-SIMSにおける化合物の同定の実現が期待される革新的なオプション」

多くのご質問をいただいた新製品や新技術など当社の最新情報は、今後も引き続き、各種イベントやホームページにて情報配信いたします。

新技術説明会では、下記３件の発表を行いました。

最新のXPS分析装置の分析事例の紹介

新製品「PHI 5000 VersaProbe III」と、現在開発中の硬X線光電子分光分析装置「PHI Quantes」について、それぞれの装置の特長と分析事例を紹介しました。
（発表者：分析室　井上 りさよ）

最新のオージェ分析装置を用いた微小領域の化学状態分析事例

高感度・高エネルギー分解能を誇るオージェ電子分光分析装置の新製品「PHI 4800」について、分析事例を用いて紹介しました。
（発表者：分析室　間宮 一敏）

パラレルイメージングMS/MSを搭載したTOF-SIMSによる最新の応用事例

PHI nanoTOF II の新オプション パラレルイメージングMS/MS が導き出す、TOF-SIMS分析の応用事例を紹介しました。
（発表者：分析室　飯田 真一）

興味のある発表内容がございましたら、お気軽に営業部までお問合せください。
それでは、来年もJASIS会場にて皆様のご来場をお待ちしております！

レポート作成：アルバック・ファイ株式会社